[发明专利]一种化学镍专用后浸剂及印制线路板上金方法有效
申请号: | 201710991710.9 | 申请日: | 2017-10-23 |
公开(公告)号: | CN107815671B | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 陈方 | 申请(专利权)人: | 浙江君浩电子股份有限公司 |
主分类号: | C23C18/30 | 分类号: | C23C18/30;C23C18/32;C23C18/42 |
代理公司: | 温州金瓯专利事务所(普通合伙) 33237 | 代理人: | 林岩龙 |
地址: | 325000 浙江省温州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明属于集成电路技术领域,具体涉及一种化学镍专用后浸剂及印制线路板上金方法,包含十二烷基苯磺酸钠、脂肪酸钾、三乙酸铵,所述化学镍专用后浸剂为弱碱性试剂。本发明配置的弱碱性化学镍专用后浸剂可以用于密IC、BGA线路板阻焊桥、开窗位基材及油墨处,防止或杜绝渗镀、毛边问题的产生,可有效去除活化中带酸性的残留药水及有机络合物,并且通过采用所配置的化学镍专用后浸剂,可以显著提高产品品质,尤其是CEM‑1单面纸板孔内上金孔内上金不良率可以显著降低至0。 | ||
搜索关键词: | 化学镍 浸剂 上金 线路板 十二烷基苯磺酸钠 集成电路技术 弱碱性试剂 有机络合物 印制 产品品质 单面纸板 发明配置 三乙酸铵 脂肪酸钾 不良率 配置的 弱碱性 药水 活化 基材 开窗 毛边 去除 渗镀 油墨 阻焊 残留 | ||
【主权项】:
1.一种化学镍专用后浸剂,其特征在于:包含十二烷基苯磺酸钠、脂肪酸钾、三乙酸铵,所述化学镍专用后浸剂为弱碱性试剂,所述十二烷基苯磺酸钠的质量含量为1‑1.5%、脂肪酸钾的质量含量为0.5‑0.75%、三乙酸铵的质量含量为0.5‑0.75%,其余为水。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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