[发明专利]光刻系统及增强图像对比度与写入集成电路图案的方法

摘要

本公开实施例提供了一种增强图像对比度的方法，用于增强光刻可印刷性，尤其是增强图像对比度的系统与方法。此方法包括接收集成电路(IC)设计布局且根据此集成电路设计布局来产生曝光图。IC设计布局包括将形成于工件的目标图案，且曝光图包括曝光网格，而此曝光网格划分为组合以形成目标图案的多个暗像素和多个亮像素。此方法还包括调整曝光图以增加在目标图案的多个边缘上的曝光剂量。在一些实施例中，调整步骤包括在曝光图中定位目标图案的边缘部分，其中，边缘部分具有一对应的亮像素；以及将来自至少一暗像素的曝光剂量分配给上述对应的亮像素，藉此产生修改的曝光图。

主权项

1.一种增强图像对比度的方法，用于一光刻工艺，包括：接收一集成电路设计布局，其中，该集成电路设计布局包括将形成于一工件的一目标图案；根据该集成电路设计布局来产生一曝光图，其中，该曝光图包括一曝光网格，该曝光网格划分为组合以形成该目标图案的多暗像素以及多亮像素；以及调整该曝光图以增加在该目标图案的多边缘上的曝光剂量，其中，调整该曝光图的步骤包括：在该曝光图中定位该目标图案的一边缘部分，其中，该边缘部分具有一对应的亮像素；以及将来自该等暗像素的至少一者的曝光剂量分配给该对应的亮像素，藉此产生一修改的曝光图。