[发明专利]氮化硅层叠膜、有机电致发光元件、电子纸和光学调整膜以及氮化硅层叠膜的制造方法在审
| 申请号： | 201711002028.9 | 申请日： | 2017-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN108146047A | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 慈幸范洋;川上信之;矶村良幸;冲本忠雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | B32B27/36 | 分类号： | B32B27/36;B32B27/06;B32B33/00;B32B37/00;B32B38/00;B32B38/18;C23C16/34;C23C16/513;H01L51/50 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明其课题在于，提供一种既具有充分的阻气性，翘曲又小的氮化硅层叠膜。本发明的氮化硅层叠膜，其特征在于，是具备柔性基材、和形成于所述柔性基材的至少一侧的表面的单层或多层的薄膜层的氮化硅层叠膜，所述单层或多层的薄膜层之中至少1层的特定薄膜层含有硅、氮和氢，表示所述特定薄膜层内的膜厚方向位置与氢原子的含量的关系的氢分布曲线具有至少1个极大点和至少1个极小点。 | ||
| 搜索关键词： | 层叠膜 氮化硅 薄膜层 柔性基材 单层 多层 有机电致发光元件 光学调整膜 分布曲线 膜厚方向 电子纸 极小点 氢原子 阻气性 翘曲 制造 | ||
【主权项】：
一种氮化硅层叠膜，其特征在于，是具备柔性基材、和形成于所述柔性基材的至少一侧的表面上的单层或多层的薄膜层的氮化硅层叠膜，所述单层或多层的薄膜层之中的至少1层特定薄膜层含有硅、氮和氢，表示所述特定薄膜层内的膜厚方向位置与氢原子的含量的关系的氢分布曲线具有至少1个极大点和至少1个极小点。
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