[发明专利]腔室盖组件、工艺腔室和半导体处理设备

摘要

本发明公开了一种腔室盖组件、工艺腔室和半导体处理设备。腔室盖组件包括腔室盖和进气组件，进气组件与腔室盖密闭连通，用于将至少两种反应气体从腔室的外侧引入到腔室的内侧，进气组件包括：至少两个相互独立的进气管道，其分别与各自的反应气源连通；第一进气件，其与腔室盖连接，第一进气件设置有至少两个进气通道，分别与其所对应的进气管道连通；防腐进气转接件，位于第一进气件和腔室盖之间，其一端与腔室密闭连通，另一端与全部进气通道密闭连通，至少两种反应气体进入到防腐进气转接件内混合反应。将多种反应气体送入到防腐进气转接件内发生混合反应，可以避免反应气体的提前混合，从而避免反应气体对腔室盖以及第一进气件的腐蚀。

主权项

1.一种腔室盖组件，位于腔室上方，所述腔室盖组件包括腔室盖和进气组件，所述进气组件与所述腔室盖密闭连通，用于将至少两种反应气体从腔室的外侧引入到腔室的内侧，其特征在于，所述进气组件包括：至少两个相互独立的进气管道，其分别与各自的反应气源连通；第一进气件，所述第一进气件与所述腔室盖连接，所述第一进气件设置有至少两个进气通道，所述进气通道分别与其所对应的所述进气管道连通；防腐进气转接件，所述防腐进气转接件位于所述第一进气件和所述腔室盖之间，所述防腐进气转接件的一端与所述腔室密闭连通，另一端与全部所述进气通道密闭连通，所述至少两种反应气体进入到所述防腐进气转接件内混合反应，以防止混合反应后的产物对进气组件产生腐蚀。