[发明专利]具有清洗功能的晶圆存储装置及半导体生产设备

摘要

本发明提供一种具有清洗功能的晶圆存储装置及半导体生产设备，具有清洗功能的晶圆存储装置包括：缓冲存料架及清洗系统，包括框架及若干个隔板，隔板固定于框架上，且在框架内隔离出若干个用于放置晶圆盒的放置区域；清洗系统设置于缓冲存料架上，清洗系统包括进气管路组件及排气管路组件；进气管路组件的一端与气体源相连通，另一端与进气口相连通；排气管路组件一端与排气口相连通；清洗系统用于向晶圆盒内通入清洗气体，以对晶圆盒内部进行清洗。本发明通过可以在工序之间或批次之间在半导体设备内的缓冲储料区对暂存的晶圆盒内部进行清洗，以去除晶圆盒内的残留气体，从而有效防止对晶圆盒内的晶圆造成污染。

主权项

1.一种具有清洗功能的晶圆存储装置，位于半导体生产设备内，用于暂存晶圆盒，所述晶圆盒上设置有与其内部相连通的进气口及排气口，其特征在于，所述晶圆存储装置包括：缓冲存料架，包括框架及若干个隔板，所述隔板固定于所述框架上，且在所述框架内隔离出若干个用于放置所述晶圆盒的放置区域；及，清洗系统，设置于所述缓冲存料架上，所述清洗系统包括进气管路组件及排气管路组件；所述进气管路组件的一端与气体源相连通，另一端与所述进气口相连通；所述排气管路组件一端与所述排气口相连通；所述清洗系统用于向所述晶圆盒内通入清洗气体，以对所述晶圆盒内部进行清洗。