[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置有效
| 申请号： | 201711024949.5 | 申请日： | 2017-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN107728364B | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 操彬彬;张辉;艾力 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 230012 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板及其制造方法、显示装置，该制造方法包括：在基板上设置若干检测像素单元。该检测像素单元的制造方法包括：形成至少两条数据线，在数据线上形成缓冲层；在该缓冲层上形成设有过孔的有机膜；该过孔与两条相邻的数据线在基板上的正投影部分重叠；在该有机膜上形成第一导电层。其中，该缓冲层形成失败时，该第一导电层通过该过孔短接该相邻的数据线。本发明提供的阵列基板及其制造方法、显示装置通过在有机膜上设置覆盖到相邻数据线的过孔，使得第一导电层能在缓冲层形成失败时通过该过孔短接相邻的数据线，从而在阵列检测中检测到相邻数据线短路的信号，检测出缓冲层缺失的问题，以避免产品的品质风险隐患。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板制造方法，其特征在于，包括：在基板上设置若干检测像素单元；所述检测像素单元的制造方法包括：形成至少两条数据线，在所述数据线上形成缓冲层；在所述缓冲层上形成设有过孔的有机膜；所述过孔与两条相邻的数据线在所述基板上的正投影部分重叠；在所述有机膜上形成第一导电层；其中，所述缓冲层形成失败时，所述第一导电层通过所述过孔短接所述相邻的数据线。
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