[发明专利]壳体制作方法、壳体基板、壳体及电子设备有效

专利信息
申请号: 201711042570.7 申请日: 2017-10-30
公开(公告)号: CN107683047B 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 陈明仁 申请(专利权)人: OPPO广东移动通信有限公司
主分类号: H05K5/02 分类号: H05K5/02;B44C1/22;B44C5/04
代理公司: 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 代理人: 黄威
地址: 523860 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请实施例公开了一种壳体制作方法、壳体基板、壳体及电子设备,其中,壳体制作方法包括:提供一壳体基板,壳体基板包括相对设置的内表面和外表面,壳体基板包括位于外表面的预镭雕区;在壳体基板外表面进行第一次氧化处理,在壳体基板外表面形成第一氧化膜;在预镭雕区进行镭雕处理,在预镭雕区形成预设图案;在预设图案位置进行第二次氧化处理,在预设图案位置形成第二氧化膜。本申请实施例通过两次氧化处理,以及配合镭雕处理,可以在壳体上形成不同的颜色或不同的区域,不仅可以减少加工工艺,而且可以满足用户使用需求。
搜索关键词: 壳体基板 预设图案 镭雕 镭雕处理 氧化处理 氧化膜 壳体 电子设备 壳体制作 两次氧化 相对设置 用户使用 内表面 面形 种壳 申请 配合
【主权项】:
1.一种壳体制作方法,所述壳体应用于电子设备中,其特征在于,所述壳体制作方法包括:/n提供一壳体基板,所述壳体基板包括相对设置的内表面和外表面,所述壳体基板包括位于所述外表面的预镭雕区;/n在所述壳体基板外表面进行第一次氧化处理,在所述壳体基板外表面形成第一氧化膜;/n在所述预镭雕区进行镭雕深度大于所述第一氧化膜厚度的镭雕处理,在所述预镭雕区形成预设图案,所述预设图案至所述第一氧化膜外表面的距离大于所述第一氧化膜的厚度;/n在所述预设图案位置进行第二次氧化处理,在所述预设图案位置形成第二氧化膜,所述第二氧化膜的厚度大于所述第一氧化膜的厚度,所述第二氧化膜的外表面和所述第一氧化膜的外表面在同一面上。/n
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