[发明专利]蚀刻组合物在审
| 申请号： | 201711049600.7 | 申请日： | 2017-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN108018556A | 公开（公告）日： | 2018-05-11 |
| 发明（设计）人： | 李宝研;朴锺模;李熙雄;安镐源;金世训 | 申请（专利权）人： | 易案爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;金世煜 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用作TFT‑LCD显示器的电极等的过渡金属膜的蚀刻中使用的蚀刻组合物，根据本发明的蚀刻组合物不仅能够有效螯合蚀刻过渡金属膜时所产生的金属离子而长时间稳定地维持显著提高了的处理张数，而且有效抑制组合物自分解反应，从而尽管在长时间的使用或保存中，也显示蚀刻处理张数没有降低的优异的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻组合物，其中，包含下述化学式1所表示的第一螯合剂和具有2个以上酸基的第二螯合剂，化学式11 、R2 和R3 各自独立地为-C(＝O)OM1 或-CH2 C(＝O)OM2 ，M1 和M2 各自独立地为氢或碱金属，R4 为氢、羟基(C1-C7)烷基、-C(＝O)OM3 或-CH2 C(＝O)OM4 ，M3 和M4 各自独立地为氢或碱金属，A为直接键合、(C2-C7)亚烷基或氨基(C1-C7)亚烷基。
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