[发明专利]显示装置的盖板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201711053823.0 申请日: 2017-10-31
公开(公告)号: CN107818736B 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 杨勇;杨映保 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G02B1/10;G02B5/00;H04M1/02;H05K5/03
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;阳志全
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种盖板及其制作方法,该制作方法包括:在透明板的上表面涂布一层第一有机材料层;在第一有机材料层上形成间隔设置的第一通孔;加热第一有机材料层,使第一有机材料层熔融而流动;对透明板上设有第一有机材料层的面进行湿蚀刻,使透明板上未被第一有机材料层遮挡的区域形成第一微槽;去除透明板表面的第一有机材料层。本发明突破现有光刻工艺制备微结构的极限,使微结构尺寸可以控制在5μm以下,并且可通过加热控制湿蚀刻工艺中的有机层材料熔融后流动,使得盖板表面的微槽结构的尺寸可以进一步缩小,从而可以根据显示面板中像素的大小对盖板的微槽结构的尺寸进行灵活调整,减轻盖板表面抗眩处理对显示装置的画质造成的散斑影响。
搜索关键词: 显示装置 盖板 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种盖板的制作方法,其特征在于,包括:提供一透明板(11),并在所述透明板(11)的上表面涂布一层第一有机材料层(1);在所述第一有机材料层(1)上形成间隔设置的第一通孔(H);加热所述第一有机材料层(1),使所述第一有机材料层(1)熔融而流动以缩小所述第一通孔(H)的孔径;对所述透明板(11)上设有所述第一有机材料层(1)的面进行湿蚀刻,使所述透明板(11)上未被所述第一有机材料层(1)遮挡的区域形成凹陷的第一微槽(110);清洗所述透明板(11),去除所述透明板(11)表面的所述第一有机材料层(1)。
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