[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置在审

专利信息
申请号: 201711068127.7 申请日: 2017-11-03
公开(公告)号: CN109755257A 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 宋振;王国英 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。该阵列基板包括:衬底,衬底具有相对设置的第一表面和第二表面;有源层,有源层设置在第一表面上;非晶硅遮光层,非晶硅遮光层设置在衬底和有源层之间或者第二表面上;其中,非晶硅遮光层在第一表面上的正投影覆盖整个第一表面或者非晶硅遮光层在第一表面上的正投影覆盖衬底的非发光区域。由此,非晶硅可以吸收整个波段的光线,采用非晶硅遮光层可实现对有源层的遮光效果,无金属反光、加热等问题,有助于提升信赖性;不存在电位连接问题,可减弱或避免寄生电容,在版图设计上有利于提升像素区开口率,在工艺方面可降低工艺难度,提升产品良率。
搜索关键词: 非晶硅 第一表面 遮光层 衬底 源层 阵列基板 第二表面 显示面板 显示装置 正投影 制备 非发光区域 版图设计 产品良率 电位连接 工艺方面 工艺难度 寄生电容 金属反光 相对设置 遮光效果 开口率 像素区 信赖性 波段 覆盖 加热 吸收
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底,所述衬底具有相对设置的第一表面和第二表面;有源层,所述有源层设置在所述第一表面上;非晶硅遮光层,所述非晶硅遮光层设置在所述衬底和所述有源层之间或者所述第二表面上;其中,所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖整个所述第一表面或者所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖所述衬底的非发光区域。
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