[发明专利]光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法

摘要

提供光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法。抑制在对光掩模的转印用图案进行了细微化、高密度化时容易产生的转印像的角部的变圆。本发明的接近曝光用的光掩模在透明基板上具有用于转印到被转印体上的转印用图案。转印用图案包含：主图案；辅助图案，其与主图案隔开地配置在主图案具有的角部的附近。主图案在透明基板上形成有第1透光控制膜，辅助图案在透明基板上形成有第2透光控制膜，并且具有无法通过曝光而析像到被转印体上的尺寸。

主权项

1.一种接近曝光用的光掩模，其在透明基板上具有用于转印到被转印体上的转印用图案，其特征在于，所述转印用图案包含：规则性排列的多个主图案；以及辅助图案，其与所述主图案隔开地配置于所述主图案分别具有的角部的附近，所述主图案在所述透明基板上形成有第1透光控制膜，所述辅助图案在所述透明基板上形成有第2透光控制膜，并且具有无法通过曝光而析像到所述被转印体上的尺寸。