[发明专利]等离子体发生模块及包含该模块的等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201711097790.X | 申请日： | 2017-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN108064112A | 公开（公告）日： | 2018-05-22 |
| 发明（设计）人： | 韩垈昊;朴宇钟;崔正秀 | 申请（专利权）人： | INVENIA有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明为了提供一种可以应对基板大型化且可以确保等离子体密度均匀性的等离子体发生模块及包含该模块的等离子体处理装置，包含供给高频电力的高频电源、以所述高频电力为基础向工序空间产生等离子体的天线及被配置在所述工序空间和所述天线之间的非磁性体，所述天线和所述非磁性体的间隔根据区域而不同，其中，所述区域根据可以使在所述工序空间产生的所述等离子体的密度均匀而设定。从而，本发明可以处理大型基板，使生成更加均匀的等离子体成为可能，具有可以制造品质优良的基板的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 发生 模块 包含 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体发生模块，其特征在于，包含：供给高频电力的高频电源；以所述高频电力为基础向工序空间产生等离子体的天线；及被配置在所述工序空间和所述天线之间的非磁性体，所述天线和所述非磁性体的间隔根据区域而不同，其中，所述区域根据可以使在所述工序空间产生的所述等离子体的密度均匀而设定。
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