[发明专利]等离子蚀刻装置及其放电腔体有效
| 申请号： | 201711121481.1 | 申请日： | 2017-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN107887249B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 赵公魄;丁雪苗;梁庭杰 | 申请（专利权）人： | 珠海宝丰堂电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 珠海智专专利商标代理有限公司 44262 | 代理人： | 林永协 |
| 地址： | 519000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子蚀刻装置及其放电腔体，该放电腔体包括外壳体、顶座、固定座、底座以及气体管口，顶座位于固定座的上方，固定座位于外壳体的上方，气体管口位于外壳体表面的一侧，底座位于外壳体的下方，放电腔体具有空腔，空腔内设置有电源电极，顶座的中部具有定位口，电源电极相对于底座垂直设置并穿过定位口向外延伸，且电源电极的正极通过连接电缆与射频电源电连接。该等离子蚀刻装置的外框的上表面设置有放电腔体，工艺气体先进入放电腔体进行预先电离产生等离子态，然后进入到等离子蚀刻装置进行二次电离，从而产生均匀的等离子体，缩短了工艺气体被电离的时间，提高了处理效率。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 蚀刻 装置 及其 放电 | ||
【主权项】：
1.用于等离子蚀刻装置的放电腔体，其特征在于：包括外壳体、顶座、固定座、底座以及至少一个气体管口，所述顶座位于所述固定座的上方，所述固定座位于所述外壳体的上方，所述气体管口位于所述外壳体表面的一侧，所述底座位于所述外壳体的下方；所述放电腔体具有空腔，所述空腔内设置有电源电极，所述顶座的中部具有定位口，所述电源电极相对于所述底座垂直设置并穿过所述定位口向外延伸，且所述电源电极的正极通过连接电缆与射频电源电连接；所述定位口具有导通孔和定位孔，所述导通孔与所述定位孔同轴设置，且所述导通孔的直径大于所述定位孔的直径。
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