[发明专利]封装体结构、芯片封装体及其形成方法有效
| 申请号： | 201711130777.X | 申请日： | 2017-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN108807196B | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 裴浩然;曹智强;陈威宇;林修任;郑明达;谢静华;刘重希 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/56 | 分类号： | H01L21/56 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 冯志云;王芝艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 根据一些实施例，提供芯片封装体的形成方法。上述方法包含形成保护层，以围绕半导体管芯，其中保护层具有相对的第一表面及第二表面。上述方法包含形成介电层于保护层的第一表面及半导体管芯上方。上述方法包含形成导电部件于介电层上方，使得导电部件电性连接至半导体管芯的导电元件。上述方法还包括将翘曲控制元件压印至保护层的第二表面及半导体管芯上，使得半导体管芯位于翘曲控制元件与介电层之间。 | ||
| 搜索关键词： | 封装 结构 芯片 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种芯片封装体的形成方法，包括：形成一保护层，以围绕一半导体管芯，其中该保护层具有相对的一第一表面及一第二表面；形成一介电层于该保护层的该第一表面及该半导体管芯上方；形成一导电部件于该介电层上方，使得该导电部件电性连接至该半导体管芯的一导电元件；以及将一翘曲控制元件压印至该保护层的该第二表面及该半导体管芯上，使得该半导体管芯位于该翘曲控制元件与该介电层之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
