[发明专利]光学防伪元件及光学防伪产品有效
| 申请号： | 201711167143.1 | 申请日： | 2017-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN109808337B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 朱军;张宝利 | 申请（专利权）人： | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
| 主分类号： | B42D25/30 | 分类号： | B42D25/30;G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 金旭鹏;肖冰滨 |
| 地址： | 100070 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学防伪领域，公开了一种光学防伪元件及光学防伪产品，其中所述光学防伪元件包括：基材，该基材包括彼此相对的第一表面和第二表面；形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第一区域的采样合成层，该采样合成层由一个或多个微采样单元构成；以及形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第二区域的微图像层；其中，当使得所述第一区域和所述第二区域相互靠近时，所述采样合成层能够对所述微图像层进行采样合成，从而形成由一个或多个宏观合成图像构成的视觉特征。所述光学防伪元件具有易识别难伪造的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 防伪 元件 产品 | ||
【主权项】：
1.一种光学防伪元件，其特征在于，所述光学防伪元件包括：基材，该基材包括彼此相对的第一表面和第二表面；形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第一区域的采样合成层，该采样合成层由一个或多个微采样单元构成；以及形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第二区域的微图像层；其中，当使得所述第一区域和所述第二区域相互靠近时，所述采样合成层能够对所述微图像层进行采样合成，从而形成由一个或多个宏观合成图像构成的视觉特征。
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