[发明专利]一种模拟内部版图图形的边缘冗余图形生成方法有效

专利信息
申请号: 201711183763.4 申请日: 2017-11-23
公开(公告)号: CN107958112B 公开(公告)日: 2021-05-21
发明(设计)人: 张美丽;于世瑞 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 俞涤炯
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种模拟内部版图图形的边缘冗余图形生成方法,采用获取原始版图和关键版图的尺寸;获取关键版图的特征图形,将关键版图转换为二维坐标系数组,对二维坐标系数组进行修改,保留必要特征图形的对应的数据,剔除剩余数据;二维坐标系数组转换为冗余图形,与预定指标比对修改后,在填充区域内填充冗余图形。采用本发明的技术方案,得到的冗余图形与关键版图非常近似,通过对上述的冗余图形在原始版图中的填充,使得冗余图像可以更好的保护关键版图地器件。
搜索关键词: 一种 模拟 内部 版图 图形 边缘 冗余 生成 方法
【主权项】:
一种模拟内部版图图形的边缘冗余图形生成方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:提供一原始版图,所述原始版图包括关键版图和填充区域,采用尺寸分析模块对所述原始版图进行分析,获取所述原始版图和所述关键版图的特征尺寸;步骤S2:采用数组抽取模块获取所述关键版图的特征图形,并根据所述特征图形的种类将所述关键版图转换为二维坐标系数组;步骤S3:采用修改模块对所述特征图形进行筛选,获取所述特征图形中必要特征图形,并对所述二维坐标系数组进行修改,保留所述必要特征图形的对应的数据,剔除剩余数据;步骤S4:采用数组还原模块将所述二维坐标系数组转换为冗余图形;步骤S5:采用图形比对模块对所述冗余图形和预定指标进行比对;若符合所述预定指标,则进入步骤S7;若不符合所述预定指标,则进入步骤S6;步骤S6:采用修正模块获取所述冗余图形不符合所述预定指标的项目,根据所述项目对所述二维坐标系数组进行修正,返回步骤S4;步骤S7:采用填充模块在所述填充区域内填充所述冗余图形。
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