[发明专利]一种甘宝素替代模板分子印迹聚合物及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种甘宝素替代模板分子印迹聚合物及其制备方法和应用。所述制备方法如下：将替代模板分子、交联剂、功能单体和引发剂溶于致孔溶剂中，制备成预聚合溶液，于55‑75℃下聚合反应24‑48h。聚合反应生成的白色块状聚合物经过研磨、筛分、沉降后，得到粒径为30‑60μm的聚合物白色颗粒。将得到的聚合物颗粒依次采用甲醇/乙酸和甲醇为萃取溶剂进行索氏提取，除去替代模板分子和未反应物质，即得到替代模板分子印迹聚合物。本发明提供的替代模板分子印迹聚合物可用作固相萃取材料，应用于环境样品、食品及个人护理品中甘宝素的富集和纯化，具有选择性强、吸附容量大和无模板泄露的优点，对人类健康及环境监测具有重要意义。

主权项

1.一种甘宝素替代模板分子印迹聚合物，其特征在于：可按以下步骤制备获得：/n(1)将替代模板分子、功能单体、交联剂、引发剂和致孔剂混合制成均相体系；比例如下：替代模板分子：功能单体：交联剂：引发剂：致孔剂摩尔比为1：2-8：10-30：0.2-0.3：18-22；/n其中替代模板分子为咪康唑或酮康唑中的至少一种；/n功能单体为甲基丙烯酸、丙烯酸、三氟甲基丙烯酸或甲基丙烯酸羟乙酯中的至少一种；/n交联剂为乙二醇基二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯或二乙烯基苯中的至少一种；/n引发剂为偶氮二异丁腈；/n致孔剂为乙腈、氯仿、甲醇或甲苯中的至少一种；/n(2)将预聚合溶液置于冰水浴中，超声脱气5-15min，通氮气除氧5-15min除去氧分子后密封，于4℃下放置2h；/n(3)将密封冷藏后的预聚合溶液放入55-75℃水浴中，进行本体聚合反应6-48h，生成白色的块状聚合物；/n(4)将白色块状聚合物粉碎、研磨、筛分并沉降，得到粒度在30-60μm的白色粉末状聚合物；/n(5)依次采用甲醇/乙酸混合溶液和甲醇为提取溶剂进行索氏提取，去除模板分子和干扰物质；/n(6)提取结束后，将聚合物置于真空干燥箱中于55-75℃干燥12-24h，即得到替代模板分子印迹聚合物。/n