[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法

摘要

即使在曝光的光的照度高的情况下，也将投影光学系统中的方向相互不同的多个像散收敛于容许范围内。曝光装置具有将掩模的图案投影到基板的投影光学系统，具有：第一光学元件，能够为了调整投影光学系统的像散变更位置或形状；第二光学元件，配置于投影光学系统的光瞳面或光瞳面的附近；控制部，控制第一光学元件的位置或形状；供给部，为了调整第二光学元件温度分布对第二光学元件供给气体，供给部对第二光学元件供给气体，以使所述第二光学元件的温度分布产生的第一方向的像散和与所述第一方向不同的第二方向的像散增减方向相互相反、使第一方向的像散收敛于容许范围内，控制第一光学元件的位置或形状，以使第二方向的像散收敛于容许范围内。

主权项

一种曝光装置，具有将掩模的图案投影到基板的投影光学系统，其特征在于，所述投影光学系统具有：第一光学元件，能够为了调整所述投影光学系统的像散而变更位置或者形状；以及第二光学元件，配置于所述投影光学系统的光瞳面或者光瞳面的附近，所述曝光装置具有：控制部，控制所述第一光学元件的位置或者形状；以及供给部，为了调整所述第二光学元件的温度分布而对所述第二光学元件供给气体，所述供给部对所述第二光学元件供给气体，以使由于所述第二光学元件的温度分布而产生的第一方向的像散和与所述第一方向不同的第二方向的像散的增减的方向相互相反，使所述第一方向的像散收敛于容许范围内，所述控制部控制所述第一光学元件的位置或者形状，以使所述第二方向的像散收敛于容许范围内。