[发明专利]一种ESD保护结构有效

专利信息
申请号: 201711223054.4 申请日: 2017-11-29
公开(公告)号: CN108122904B 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 单毅;董业民 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 邓琪
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种ESD保护结构,包括:第一NMOS管,其栅极接一低压电源端;第二NMOS管,其栅极和源极接地,漏极接所述第一NMOS管的源极;以及至少一个二极管,串联在一高压输入端与所述第一NMOS管的漏极之间。本发明通过将现有单个NMOS改成串联NMOS,同时集成二极管,从而对于高压PAD可以得到和普通低压NMOS相近的ESD保护性能,大大提高了其ESD保护能力,同时低压NMOS的栅极又不会因为一直工作在高压下而发生失效。
搜索关键词: 一种 esd 保护 结构
【主权项】:
一种ESD保护结构,其特征在于,包括:第一NMOS管,其栅极接一低压电源端;第二NMOS管,其栅极和源极接地,漏极接所述第一NMOS管的源极;以及至少一个二极管,串联在一高压输入端与所述第一NMOS管的漏极之间。
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