[发明专利]一种高粘附力速显影性干膜抗蚀剂有效
| 申请号： | 201711228751.9 | 申请日： | 2017-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN107942618B | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 朱薛妍;李志强;李伟杰;周光大;林建华 | 申请（专利权）人： | 浙江福斯特新材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 311305 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了了一种高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，所述它由溶剂和溶解在溶剂中的浓度为30‑50wt％的抗蚀核心组分组成；所述抗蚀核心组分包含碱可溶性树脂、烯属光聚合性不饱和单体、光聚合引发剂、染色剂和添加剂，所述烯属光聚合不饱和单体包括含环糊精基团的烯属不饱和双键化合物、含有双酚A结构的丙烯酸化合物、含有聚乙二醇链段的二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯以及含有磷酸基团的丙烯酸羟乙基酯化合物。本发明所制得的感光干膜抗蚀剂具备高粘附力与快速显影的特点，有效地减少了电镀过程中渗镀、短路的现象，大大提升了电路板生产过程的效率与良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 粘附 显影 性干膜抗蚀剂 | ||
【主权项】：
一种高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，其特征在于：它由溶剂和溶解在溶剂中的抗蚀核心组分组成；所述抗蚀核心组分的浓度为30‑50wt％，包含碱可溶性树脂、烯属光聚合性不饱和单体、光聚合引发剂、染色剂和添加剂，它们在抗蚀核心组分中的含量分别为30‑70wt％、15‑60wt％、0.1‑10wt％、0.1‑5wt％、0.01‑1wt％，所述烯属光聚合不饱和单体包括具有下述通式(I)所示的含环糊精基团的烯属不饱和双键化合物、含有双酚A结构的丙烯酸化合物、含有聚乙二醇链段的二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯以及含有磷酸基团的丙烯酸羟乙基酯化合物，且它们在烯属光聚合性不饱和单体中的含量分别为10‑50wt％、10‑30wt％、5‑15wt％、15‑60wt％、1‑3wt％。式中，R1和R2分别独立地选自氢、甲基；圆环表示D‑吡喃葡萄糖单元连接的环，n表示D‑吡喃葡萄糖单元的个数，可以为6‑12的任意一个整数。
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