[发明专利]两类3‑位含吡啶取代基团芳炔前体及其制备在审
| 申请号： | 201711235636.4 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN107936050A | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | 李杨;吕春杰 | 申请（专利权）人： | 重庆大学 |
| 主分类号： | C07F7/08 | 分类号： | C07F7/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 400044 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明公开了两类3‑位含吡啶取代基团的芳炔前体及其制备。该3‑位含吡啶取代基团的芳炔前体的合成方法包括非传统1，2‑二芳炔前体的合成、利用非传统1，2‑二芳炔前体与吡啶/V‑氧化物一锅煮进行反应，高效地制备了3‑位含吡啶取代基团芳炔前体A，B两个步骤。本发明的技术效果是首先，实现了两类3‑位含吡啶取代基团的芳炔前体A，B的制备，该化合物及其合成方法在有机物合成和药物合成领域具有广阔的应用前景；其次，此方法合成方法简便，能大量制备。 | ||
| 搜索关键词： | 吡啶 取代 基团 芳炔前体 及其 制备 | ||
【主权项】：
两类3‑位含吡啶取代基团芳炔前体及其制备其结构式如下：
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