[发明专利]掩膜板有效
申请号: | 201711249267.4 | 申请日: | 2017-12-01 |
公开(公告)号: | CN107885030B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 农艳菲;龚建国;冉应刚;吴俊雄;王衣可;柯贤军;苏君海;李建华 | 申请(专利权)人: | 信利(惠州)智能显示有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 叶剑 |
地址: | 516029 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种掩膜板,包括:空闲区和至少一个有效蒸镀区,空闲区设置于有效蒸镀区的外侧;至少一个有效蒸镀区开设有多个蒸镀开口,各蒸镀开口均匀分布设置;有效蒸镀区与空闲区之间还设置有过渡区,过渡区包围有效蒸镀区设置,过渡区的厚度小于有效蒸镀区的厚度,且小于空闲区的厚度。通过在有效蒸镀区和空闲区之间设置过渡区,由于该过渡区的厚度相对于有效蒸镀区以及空闲区的厚度更小,使得过渡区的强度较小,当在掩膜板两端施加拉力时,在力的传递过程中,拉力受到的反作用逐渐减小,使得空闲区到有效蒸镀区的变形能平缓过渡,有效减小褶皱,减小有效蒸镀区的形变,使得蒸镀效果更佳,从而提高蒸镀的产品良率。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 | ||
【主权项】:
一种掩膜板,其特征在于,包括空闲区和至少一个有效蒸镀区,所述空闲区设置于所述有效蒸镀区的外侧;所述至少一个有效蒸镀区开设有多个蒸镀开口,各所述蒸镀开口均匀分布设置;所述有效蒸镀区与所述空闲区之间还设置有过渡区,所述过渡区包围所述有效蒸镀区设置,所述过渡区的厚度小于所述有效蒸镀区的厚度,且小于所述空闲区的厚度。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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