[发明专利]一种高效的蚀刻设备在审
申请号: | 201711265402.4 | 申请日: | 2017-12-05 |
公开(公告)号: | CN107833853A | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | 张进元 | 申请(专利权)人: | 昆山市苏元电子集团有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B08B3/02;B08B3/14 |
代理公司: | 苏州六一专利代理事务所(普通合伙)32314 | 代理人: | 沈陈 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种高效的蚀刻设备,包括底板、位于所述底板上方的喷药装置、位于所述喷药装置左侧的支架装置、设置于所述支架装置上的电机装置、位于所述底板上方的支撑板装置、设置于所述底板上的旋转板装置、设置于所述支架装置上的喷水装置。本发明能够将喷过后的化学药液及水充分的分开回收,进而可以减少资源的浪费,并且可以防止对环境造成污染,操作简单,自动化程度高,使用方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 高效 蚀刻 设备 | ||
【主权项】:
一种高效的蚀刻设备,包括底板、位于所述底板上方的喷药装置、位于所述喷药装置左侧的支架装置、设置于所述支架装置上的电机装置、位于所述底板上方的支撑板装置、设置于所述底板上的旋转板装置、设置于所述支架装置上的喷水装置,其特征在于:所述底板上设有位于其下方的若干万向轮、位于其上方的第一回收箱、位于所述第一回收箱右侧的第一定位块、位于所述第一回收箱左侧的第二回收箱、位于所述第二回收箱左侧的第二定位块,所述喷药装置包括第一支撑杆、位于所述第一支撑杆上方的第一横板、位于所述第一横板上方的药箱、设置于所述药箱上的第一管道、设置于所述第一管道上的第一水泵、设置于所述第一管道端部的第一喷头、设置于所述第一喷头上的第一固定杆,所述支架装置包括第二支撑杆、位于所述第二支撑杆上方的第一横杆、设置于所述第一横杆上的第一滚轮、位于所述第一横杆上方的第一竖杆、设置于所述第一竖杆上的第二横杆、设置于所述第二横杆右端的第二滚轮,所述电机装置包括第三横杆、位于所述第三横杆上方的电机、设置于所述电机上的输出轴、设置于所述输出轴上的拉线、位于所述电机上方的第二固定杆、设置于所述第二固定杆上端的第三滚轮,所述支撑板装置包括支撑板、位于所述支撑板上方的框体、位于所述框体左侧的第三固定杆、位于所述第三固定杆下方的第一弹簧、位于所述支撑板下方的集中框、位于所述集中框下方的过滤网、位于所述集中框右侧的连接杆、位于所述连接杆下方的推动块,所述旋转板装置包括第三支撑杆、位于所述第三支撑杆上方的连接块、位于所述连接块上方的旋转板、位于所述第三支撑杆左侧的第二弹簧,所述喷水装置包括第四支撑杆、位于所述第四支撑杆上方的第二横板、位于所述第二横板上方的水箱、设置于所述水箱上的第二管道、设置于所述第二管道上的第二水泵、设置于所述第二管道端部的第二喷头、设置于所述第二喷头上的第四固定杆。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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