[发明专利]一种湿法刻蚀的上料装置

摘要

本发明涉及一种湿法刻蚀的上料装置，包括上料主机台、反应槽、滚轮、储液槽，反应槽设置在上料主机台上，滚轮设置在反应槽的顶部，反应槽里放置有腐蚀液，反应槽中的腐蚀液的液面高于滚轮的底部，储液槽中的化学品和水通过循环泵输送至反应槽，储液槽上设置有化学品配液添加系统和水配液添加系统。其有益效果是本实施例的湿法刻蚀的上料装置将上料和反应槽集成于一个单元槽，在完成硅片上料的同时，还可实现去除单面磷硅玻璃PSG、硼硅玻璃BSG、氮化硅SiNx等工艺的功能槽作用，从而增加了本发明的湿法刻蚀的上料装置的功能，减少了制造工序及设备成本，节约了功能槽的长度，节省了设备空间，减少了多道滚轮转动带来的碎片。

主权项

一种湿法刻蚀的上料装置，包括上料主机台、反应槽、滚轮、储液槽，其特征在于：所述反应槽设置在所述上料主机台上，所述滚轮设置在所述反应槽的顶部，所述反应槽里放置有腐蚀液，所述反应槽中的腐蚀液的液面高于所述滚轮的底部，所述储液槽中的化学品和水通过循环泵输送至所述反应槽，所述储液槽上设置有化学品配液添加系统和水配液添加系统。