[发明专利]多带电粒子束曝光方法以及多带电粒子束曝光装置有效
申请号: | 201711293676.4 | 申请日: | 2017-12-08 |
公开(公告)号: | CN108181790B | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 松本裕史 | 申请(专利权)人: | 纽富来科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 房永峰 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及多带电粒子束曝光方法及多带电粒子束曝光装置,在使用基于带电粒子束的多束将按每束预先设定的多个控制照射时间对应的多个分割发射分别组合来对相同的照射位置持续进行多个分割发射,来对多重曝光中的每个通路的各束的照射位置分别进行所希望的照射时间的曝光的情况下,使用预先取得的消隐误差时间,按每个控制照射时间运算实效照射时间,创建表示控制照射时间与实效照射时间的关系的相关关系数据,使用相关关系数据,按试样的每个照射位置,选择与所希望的照射时间更接近的实效照射时间所对应的分割发射的组合,使用多束,进行按照对于试样的每个照射位置选择出的分割发射的组合的曝光。 | ||
搜索关键词: | 带电 粒子束 曝光 方法 以及 装置 | ||
【主权项】:
1.一种多带电粒子束曝光方法,其特征在于,在使用基于带电粒子束的多束,将按每束预先设定的多个控制照射时间所对应的多个分割发射分别组合来对相同的照射位置持续进行该组合的多个分割发射,由此对多重曝光中的每个表示各次曝光处理的通路的各束的照射位置分别进行所希望的照射时间的曝光的情况下,使用在对于每个分割发射按照该分割发射进行了基于带电粒子束的曝光的情况下因消隐控制的误差而引起的、预先取得的消隐误差时间,对于每个控制照射时间,运算按照与该控制照射时间对应的上述分割发射的组合由带电粒子束进行了曝光的情况下的实效照射时间,创建表示上述控制照射时间与上述实效照射时间的关系的相关关系数据,使用上述相关关系数据,按试样的每个照射位置,选择与所希望的照射时间更接近的上述实效照射时间所对应的上述分割发射的组合,使用上述多束,按照对于上述试样的每个照射位置选择出的上述分割发射的组合来进行曝光。
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