[发明专利]光学防伪元件及其制备方法有效
| 申请号： | 201711295713.5 | 申请日： | 2017-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN109895527B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 胡春华;朱军;吴远启;李欣毅;张宝利 | 申请（专利权）人： | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
| 主分类号： | B42D25/40 | 分类号： | B42D25/40;B42D25/324 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 陆文超;肖冰滨 |
| 地址： | 100070 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学防伪元件及其制备方法，属于光学防伪领域。所述光学防伪元件至少包括：基材；位于所述基材上的起伏结构层，该起伏结构层包括具有第一起伏结构的第一区域和具有第二起伏结构的第二区域，其中所述第一起伏结构表面的比体积小于所述第二起伏结构表面的比体积；仅位于所述第一区域上的镀层；位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第一子区域的具有第一颜色特征的涂层；以及位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第二子区域的具有不同于所述第一颜色特征的第二颜色特征的涂层。本发明提供的光学防伪元件实现了多彩色特征和无误差精准镂空特征相集成的效果，能够兼具鲜艳的外观和极高的抗伪造能力。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 防伪 元件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学防伪元件，该光学防伪元件至少包括：基材；位于所述基材上的起伏结构层，该起伏结构层包括具有第一起伏结构的第一区域和具有第二起伏结构的第二区域，其中所述第一起伏结构表面的比体积小于所述第二起伏结构表面的比体积；仅位于所述第一区域上的镀层；位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第一子区域的具有第一颜色特征的涂层；以及位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第二子区域的具有不同于所述第一颜色特征的第二颜色特征的涂层。
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