[发明专利]使用光学邻近效应修正模型产生光掩模的方法

摘要

一种使用光学邻近效应修正模型产生光掩模的方法，包括提供测试光掩模，该测试光掩模具有特征四边形，依照尺寸与长宽比的变化而不同。对该特征四边形的每一个角落加入多种不同的衬线图案。使用具有衬线图案的每一个该测试光掩模，在晶片上形成多个测试图案。测量与统计分析该多个测试图案的至少一个几何参数，以决定出一特定衬线图案给每一个该测试光掩模的该角落。建立光学邻近效应修正模型，包括每一个该测试光掩模在该角落的该特定衬线图案。接收一数据库布局图案。使用光学邻近效应修正模型产生第一数据库布局图案。执行光学邻近效应修正流程，以对该第一数据库布局图案最佳化成第二数据库布局图案。根据第二数据库布局图案产生光掩模。

主权项

1.一种使用光学邻近效应修正模型产生光掩模的方法，其特征在于，包括:提供测试光掩模，所述测试光掩模具有特征四边形，依照尺寸与长宽比的变化而不同；对所述特征四边形的每一个角落加入多种不同的衬线图案；使用具有所述衬线图案的每一个所述测试光掩模，在晶片上形成多个测试图案；测量与统计分析所述多个测试图案的至少一个几何参数，以决定出一特定衬线图案给每一个所述测试光掩模的所述角落；建立光学邻近效应修正模型，包括每一个所述测试光掩模在所述角落的所述特定衬线图案；接收一数据库布局图案；使用所述光学邻近效应修正模型产生第一数据库布局图案；执行光学邻近效应修正流程，以对所述第一数据库布局图案最佳化成第二数据库布局图案；以及根据所述第二数据库布局图案产生光掩模。