[发明专利]X光散射测量的方法有效
| 申请号： | 201711320393.4 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN109324278B | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | 冯世鑫;王仲伟;黄忠利;林逸宏 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G01R31/28 | 分类号： | G01R31/28;G01J5/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 冯志云;张福根 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | X光散射测量的方法包含形成测试键。测试键的形成包含形成第一多个半导体条，将第一多个半导体条切割成第二多个半导体条的阵列，阵列的每一列由第一多个半导体条中的一条形成，在第二多个半导体条之间的凹陷中形成隔离区，以及将隔离区凹陷。第二多个半导体条的顶部凸出高于隔离区而形成半导体鳍片，其形成鳍片阵列。此方法还包含将X光束投射至测试键上，以及从测试键散射的散射X光束得到绕射图案。 | ||
| 搜索关键词： | 散射 测量 方法 | ||
【主权项】：
1.一种X光散射测量的方法，包括：形成一测试键，包括：形成一第一多个半导体条；将该第一多个半导体条切割成一第二多个半导体条的一阵列，其中该阵列的每一列是由该第一多个半导体条中的一条形成；在位在该第二多个半导体条之间的凹陷内形成一隔离区；以及将该隔离区凹陷，其中该第二多个半导体条的顶部凸出高于该隔离区，以形成多个半导体鳍片，且该些半导体鳍片形成一鳍片阵列；将一X光束投射在该测试键上；以及从该测试键散射的散射X光束得到一绕射图案。
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