[发明专利]柔性OLED封装用金属掩膜版的绝缘处理方法有效
申请号: | 201711330542.5 | 申请日: | 2017-12-13 |
公开(公告)号: | CN108034913B | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 唐军 | 申请(专利权)人: | 深圳浚漪科技有限公司 |
主分类号: | C23C2/12 | 分类号: | C23C2/12;C23C14/16;C23C14/24;C25D11/04;C23C16/04 |
代理公司: | 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 | 代理人: | 郑学伟;叶利军 |
地址: | 518000 广东省深圳市坪山区碧岭*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种柔性OLED封装用金属掩膜版的绝缘处理方法,包括:提供一金属掩膜版,在所述金属掩膜版的表面形成一纯铝层,对形成纯铝层的金属掩膜版进行阳极氧化处理。根据本发明实施例提供的柔性OLED封装用金属掩膜版的绝缘处理方法,先在金属掩膜版的表面形成一纯铝层,再对形成纯铝层的金属掩膜版进行阳极氧化处理,如此,阳极氧化处理后的金属掩膜版表面即可呈现优良的绝缘性,使得金属掩膜版能够满足镀膜中对绝缘性的要求。 | ||
搜索关键词: | 柔性 oled 封装 金属 掩膜版 绝缘 处理 方法 | ||
【主权项】:
1.一种柔性OLED封装用金属掩膜版的绝缘处理方法,其特征在于,包括:提供一金属掩膜版;在所述金属掩膜版的表面形成一纯铝层或氧化铝层;对形成纯铝层或氧化铝层的金属掩膜版进行阳极氧化处理。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物