[发明专利]擦拭机构及基板清洗装置有效
| 申请号： | 201711331296.5 | 申请日： | 2017-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN108067447B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 施杰 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/02 | 分类号： | B08B1/02;B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司： | 44304 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 | 代理人： | 孙伟峰;阳志全 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种擦拭机构，用于擦拭传输中的基板，包括分别可往复移动地擦拭基板的上下两侧的上擦拭件和下擦拭件，所述上擦拭件和所述下擦拭件的移动方向平行于基板所在的承载面，并垂直于基板的传输方向，且所述上擦拭件与所述下擦拭件的移动方向始终相反。本发明还公开了一种基板清洗装置。本发明通过将上擦拭件和下擦拭件分别设置在基板的上下两侧进行往复移动擦拭，使得上擦拭件和下擦拭件的擦拭方向平行于基板所在的承载面，并垂直于基板的传输方向，且上擦拭件与下擦拭件的移动方向相反，不会使基板因为擦拭而发生偏移，可以保证基板表面异物的清洗效果，同时又不会在基板表面产生划痕，也不会损坏清洗装置或影响基板传输。 | ||
| 搜索关键词： | 擦拭件 基板 擦拭 基板清洗装置 擦拭机构 传输方向 上下两侧 移动方向 承载面 垂直 基板表面异物 移动方向相反 往复移动地 方向平行 基板表面 清洗效果 清洗装置 影响基板 传输 偏移 划痕 平行 保证 | ||
【主权项】：
1.一种擦拭机构，用于擦拭传输中的基板(P)，其特征在于，包括分别可往复移动地擦拭基板(P)的上下两侧的上擦拭件(11)和下擦拭件(12)，所述上擦拭件(11)和所述下擦拭件(12)的移动方向平行于基板(P)所在的承载面，并垂直于基板(P)的传输方向，且所述上擦拭件(11)与所述下擦拭件(12)的移动方向始终相反；所述上擦拭件(11)与所述下擦拭件(12)均包括远离基板(P)的背板(a)和固定在所述背板(a)内表面、用于接触背板(a)的擦拭部(b)；还包括分别设于基板(P)的传输方向两侧的左支架(13)、右支架(14)，所述上擦拭件(11)的所述背板(a)两端均连接有第一连接轴(110)，所述下擦拭件(12)的所述背板(a)两端均连接有第二连接轴(120)，所述上擦拭件(11)两端的所述第一连接轴(110)、所述下擦拭件(12)两端的所述第二连接轴(120)均分别插设在所述左支架(13)和所述右支架(14)内并由所述左支架(13)和所述右支架(14)支撑；还包括固定在所述右支架(14)一侧的固定座(16)和中部可转动地连接在所述固定座(16)上的联动杆(17)，所述联动杆(17)的两端分别与临近的所述第一连接轴(110)和所述第二连接轴(120)铰接。/n
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