[发明专利]抛光用压力缓冲垫、抛光装置及抛光工艺在审
| 申请号： | 201711343702.X | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108098567A | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 冯光建;夏秋良 | 申请（专利权）人： | 苏州新美光纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24B37/20 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吴开磊 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供抛光用压力缓冲垫、抛光装置及抛光工艺，涉及抛光技术领域。涉及抛光用压力缓冲垫，包括压力缓冲垫，压力缓冲垫一面设置有胶层，压力缓冲垫的另一面间隔设置有多个压力传导区域；压力缓冲垫通过胶层与抛光盘固定。涉及抛光装置，设置有上述的抛光用压力缓冲垫，该压力缓冲垫可以与抛光盘粘贴，也可以与抛光磨头粘贴；压力缓冲垫设置在抛光盘与抛光磨头之间即可，用于两者之间的压力传导；待抛光晶圆设置在抛光盘下方的模板里。还涉及抛光工艺，采用上述的抛光装置。采用本发明的技术方案，可以贴在压力盘的背面，通过缓冲垫的厚度变化来分配上面承受的压力，使晶圆能够较为均匀的压在大盘上，从而使抛光顺利进行。 | ||
| 搜索关键词： | 压力缓冲 抛光 抛光装置 抛光盘 抛光工艺 抛光磨头 压力传导 胶层 粘贴 抛光技术领域 厚度变化 间隔设置 抛光晶圆 缓冲垫 压力盘 大盘 晶圆 背面 分配 | ||
【主权项】：
1.一种抛光用压力缓冲垫，其特征在于，包括压力缓冲垫，所述压力缓冲垫一面设置有胶层，所述压力缓冲垫的另一面间隔设置有多个压力传导区域；所述压力缓冲垫通过所述胶层与抛光盘或抛光磨头固定。
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