[发明专利]掩模板、蒸镀设备和装置有效
| 申请号： | 201711352634.3 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN108004503B | 公开（公告）日： | 2021-01-19 |
| 发明（设计）人： | 谢飞;靳福江 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种掩模板、蒸镀设备和装置。该掩模板包括相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条，掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成构件的掩模图案，在第一掩模条和在第二掩模条的交叉区域，第一掩模条和第二掩模条共同构成该掩模图案的一部分。该掩模板可以降低掩模条的张网难度，提升掩模板的精度，从而提高利用该掩模板制造的装置的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 设备 装置 | ||
【主权项】：
1.一种掩模板，包括：相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条；其中，所述掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成所述构件的掩模图案，在所述第一掩模条和在所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条和所述第二掩模条共同构成所述掩模图案的一部分。
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