[发明专利]反蛋白石结构防伪转印膜的制备方法在审
| 申请号： | 201711376110.8 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN108099433A | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 叶常青 | 申请（专利权）人： | 苏州中科纳福材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B41M3/06 | 分类号： | B41M3/06;B05D7/04;B05D7/24;B05D3/06 |
| 代理公司： | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 叶栋 |
| 地址： | 215024 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种反蛋白石结构防伪转印膜的制备方法。本发明的制备方法包括以下步骤：(1)提供组装基底；(2)制备含有硫化银量子点的二氧化硅光子晶体模板分散液；(3)在组装基底表面涂布所制备的光子晶体模板分散液，干燥后制得胶体光子晶体模板膜；(4)去除光子晶体模板，得到不同带隙的反蛋白石结构的硫化银纳米团簇光子晶体层。本发明结合了硫化银量子点和光子晶体的性质，制备了具有防伪性能的反蛋白石结构的硫化银纳米团簇光子晶体转印膜。由硫化银纳米团簇组装成的光子晶体相较于硫化银量子点具有更加优良的性能：荧光性能得到增强，且激发峰蓝移至700nm，呈现出带有光泽感的红色。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 反蛋白石结构 光子晶体模板 硫化银纳米 量子点 硫化银 转印膜 组装 光子晶体 团簇光子 分散液 防伪 胶体光子晶体 二氧化硅 防伪性能 基底表面 光泽感 晶体层 模板膜 荧光 带隙 基底 蓝移 去除 团簇 激发 | ||
【主权项】：
1.一种反蛋白石结构防伪转印膜的制备方法，其特征在于，包括：(1)提供组装基底；(2)制备含有硫化银量子点的二氧化硅光子晶体模板分散液；(3)在组装基底表面涂布所制备的光子晶体模板分散液，干燥后制得胶体光子晶体模板膜；(4)去除光子晶体模板，得到不同带隙的反蛋白石结构的硫化银纳米团簇光子晶体层；(5)图案化所述硫化银银纳米团簇光子晶体层，以形成带防伪图案的转印膜。
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