[发明专利]锗单晶的生长方法在审

专利信息
申请号: 201711429251.1 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN108277531A 公开(公告)日: 2018-07-13
发明(设计)人: 狄聚青;朱刘;尹士平;胡智向;刘运连 申请(专利权)人: 广东先导先进材料股份有限公司
主分类号: C30B29/08 分类号: C30B29/08;C30B15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 511517 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种锗单晶的生长方法,该生长方法将原料熔化为熔体,然后抽真空,在真空氛围下利用籽晶在一定的温场梯度下经过引晶过程、放肩过程、等径生长过程、收尾过程、降温过程形成锗单晶;引晶过程中,控制晶体拉速为5‑10mm/h;控制晶体生长速度为10‑30g/h,晶体直径为20‑30mm;放肩过程中,维持拉速在0.1‑0.3mm/h,控制晶体生长速度由10‑30g/h逐步增加到500g/h;等径生长过程中,维持拉速在0.1‑0.3mm/h,控制晶体生长速度为500‑2000g/h;收尾过程中,手动控制拉速,拉速在10‑100mm/h;降温过程中,拉速为0,降温速率为20‑50℃/h。本发明锗单晶的生长方法,所制备得到的晶体尺寸大、结晶性能良好、成品率较高,且晶体无开裂、多晶等缺陷,推广该方法,能产生显著的经济效益。
搜索关键词: 拉速 生长 控制晶体 锗单晶 等径生长 降温过程 放肩 引晶 收尾 结晶性能 手动控制 原料熔化 真空氛围 逐步增加 成品率 抽真空 多晶 熔体 温场 籽晶 制备
【主权项】:
1.一种锗单晶的生长方法,该生长方法首先将原料熔化为熔体,然后抽真空,在真空氛围下利用籽晶在一定的温场梯度下经过引晶过程、放肩过程、等径生长过程、收尾过程、降温过程形成锗单晶;其特征在于:引晶过程中,控制晶体拉速为5‑10mm/h;控制晶体生长速度为10‑30g/h,晶体直径为20‑30mm;放肩过程中,维持拉速在0.1‑0.3mm/h,控制晶体生长速度由10‑30g/h逐步增加到500g/h;等径生长过程中,维持拉速在0.1‑0.3mm/h,控制晶体生长速度为500‑2000g/h;收尾过程中,手动控制拉速,拉速在10‑100mm/h;降温过程中,拉速为0,降温速率为20‑50℃/h。
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