[发明专利]加米霉素中间体化合物I的晶型及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201711441861.3 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109970827A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 张许科;侯林 | 申请（专利权）人： | 洛阳惠中兽药有限公司 |
| 主分类号： | C07H17/00 | 分类号： | C07H17/00;C07H1/06 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;方莉 |
| 地址： | 471000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种加米霉素中间体化合物Ⅰ的晶型及其制备方法和应用。所述晶型的X射线粉末衍射谱图的反射角2θ在10.59±0.2，12.15±0.2，12.67±0.2，15.80±0.2，18.57±0.2中一处、两处、三处、四处或五处具有特征峰。通过本发明提供的制备方法制备的晶型其稳定性比加米霉素中间体化合物Ⅰ样品的稳定性更好，且纯度高达98％以上。而且采用的设备方法简单，对设备要求低，方法重复性好，适合工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 晶型 中间体化合物 制备方法和应用 制备 对设备 反射角 特征峰 | ||
【主权项】：
1.一种加米霉素中间体化合物I的晶型，所述加米霉素中间体化合物I结构如式I所示：![]()
所述晶型的X射线粉末衍射谱图的反射角2θ在10.59±0.2，12.15±0.2，12.67±0.2，15.80±0.2，18.57±0.2中一处、两处、三处、四处或五处具有特征峰。
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