[发明专利]一种光刻胶清洗液在审
| 申请号： | 201711455983.8 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN109976111A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 高晓义;季冬晨;尚大鹏;胡杭剑;彭永强;周燚;王亚骏;陈春晓;刘翘楚 | 申请（专利权）人： | 上海飞凯光电材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 刘小鹤 |
| 地址： | 201908 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶清洗液，属于光刻胶领域。该光刻胶清洗液包括以下质量百分比的组分：1％‑6％的季铵氢氧化物水合物或季铵氢氧化物溶液、1％‑10％的醇胺、以及余量的助溶剂；该季铵氢氧化物水合物或季铵氢氧化物溶液包括：质量百分比大于或等于80％的季铵氢氧化物。该清洗液的水含量较低，通过上述各组分的协同作用，具有对光刻胶清洗效果强，同时，对金属基材，例如铝、铜、锡、锡银合金等损伤低，对光刻胶图案无损伤等优点，有效解决了现有技术光刻胶清洗液的清洗效果差，对金属基材损伤大的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 季铵氢氧化物 光刻胶 清洗液 水合物 质量百分比 金属基材 清洗效果 损伤 刻胶图案 锡银合金 有效解决 无损伤 助溶剂 醇胺 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶清洗液，其特征在于，所述光刻胶清洗液包括以下质量百分比的组分：1％‑6％的季铵氢氧化物水合物或季铵氢氧化物溶液、1％‑10％的醇胺、以及余量的助溶剂；所述季铵氢氧化物水合物或所述季铵氢氧化物溶液包括：质量百分比大于或等于80％的季铵氢氧化物。
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