[发明专利]一种阵列基板的过孔结构及光罩有效
| 申请号： | 201711459055.9 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108132567B | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 尹勇明;李征华 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;G03F1/38;H01L27/12 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 孙威;潘中毅 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板的过孔结构，包括：基板；形成在基板上的TFT层；TFT层上涂布有机光阻形成平坦层，平坦层通过光罩形成过孔，过孔的边缘具有至少一个形成在平坦层上的沟缝；沟缝将过孔的边缘分割成多个坡面，过孔在与多个坡面相对应的位置上依次形成坡角，使过孔整体坡角的坡度变缓。本发明还公开了一种光罩。实施本发明的阵列基板的过孔结构及光罩，阵列基板的过孔结构的边缘形成至少一个沟缝，沟缝将过孔形成在平坦层上的边缘分割成多个坡面，过孔在与多个坡面相对应的位置上依次形成坡角，进而使过孔整体坡角的坡度变缓，从而改善液晶显示面板的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 结构 | ||
【主权项】：
一种阵列基板的过孔结构，其特征在于，包括：基板；形成在所述基板上的TFT层；所述TFT层上涂布有机光阻形成平坦层，所述平坦层通过光罩形成过孔，所述过孔的边缘具有至少一个形成在所述平坦层上的沟缝；所述沟缝将所述过孔的边缘分割成多个坡面，所述过孔在与所述多个坡面相对应的位置上依次形成坡角，使所述过孔整体坡角的坡度变缓。
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