[发明专利]基于磁控技术的镀膜玻璃及制备方法在审

专利信息
申请号: 201711459760.9 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN107915414A 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 李珩民;彭志福;孙秋华;赵岩;秦海一 申请(专利权)人: 黑龙江健中特种玻璃有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 哈尔滨东方专利事务所23118 代理人: 陈晓光
地址: 150029 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 基于磁控技术的镀膜玻璃及制备方法。目前市面上常见的低辐射玻璃主要为单银和双银结构的,其中单层银的应用占主导地位,随着社会能耗的不断增加,节能要求越来越高,普通单银Low‑E中空玻璃已不能很好地满足需要,此外,人们在选择建筑物的玻璃门窗时,除了考虑性能和外观特征外,室内的透过色中性视觉效果也得到了广泛的关注。本发明包括玻璃基片,所述的玻璃基片厚度为4.0~10.0mm,经过磁控溅射镀膜工艺沉积进行多层镀膜,所述的多层镀膜包括第一氧化物层、第一金属氧化物层、金属银层、金属钛层、第二金属氧化物层、第二氧化物层、氧化铜保护层。本发明用于基于磁控技术的镀膜玻璃及其制备方法。
搜索关键词: 基于 技术 镀膜 玻璃 制备 方法
【主权项】:
一种基于磁控技术的镀膜玻璃,其组成包括:玻璃基片,其特征是:所述的玻璃基片厚度为4.0~10.0mm,经过磁控溅射镀膜工艺沉积进行多层镀膜,所述的多层镀膜包括:第一氧化物层、第一金属氧化物层、金属银层、金属钛层、第二金属氧化物层、第二氧化物层、氧化铜保护层。
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