[发明专利]一种真空装置有效
| 申请号： | 201711461752.8 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108193190B | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 刘永军 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 孙威;潘中毅 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空装置，包括：第一腔室，第一腔室设有第一通道口；第二腔室，第二腔室设有第二通道口，以及分别与第一腔室和第二腔室密封相连的第三腔室，第一通道口和第二通道口分别与第三腔室连通，第三腔室中设有密封门组件；密封门组件包括：能够在第三腔室中升降的升降机构、设置在升降机构上的可密封第一通道口的第一门体以及设置在升降机构上的可密封第二通道口的第二门体，其中：第一门体受控密封第一通道口和/或第二门体同步受控密封第二通道口。实施本发明的真空装置，能够分别对应密封相应的真空腔室，相互不影响腔室的真空状态，能够提高设备的作业效果；结构精简，易于维修和维护。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 装置 | ||
【主权项】：
1.一种真空装置，其特征在于，包括：第一腔室，所述第一腔室设有第一通道口；第二腔室，所述第二腔室设有第二通道口，以及分别与所述第一腔室和所述第二腔室密封相连的第三腔室，所述第一通道口和所述第二通道口分别与所述第三腔室连通，所述第三腔室中设有密封门组件；所述密封门组件包括：能够在所述第三腔室中升降的升降机构、设置在所述升降机构上的可密封所述第一通道口的第一门体以及设置在所述升降机构上的可密封所述第二通道口的第二门体，其中：所述第一门体受控密封所述第一通道口和/或所述第二门体同步受控密封所述第二通道口。
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