[发明专利]一种掩模板制作的优化设计方法

摘要

本发明公开了一种掩模板制作的优化设计方法，适用于掩模板曝光工序，曝光设备根据数据图形、光束数量及光束扫描宽度进行X/Y方向划分，计算出相应的曝光条数，获取相邻曝光条数重叠区域的位置以及重叠区域所对应的数据图形；根据重叠区域所对应的数据图形再次设计增加数据图案，以再次设计增加的数据图案消弱或反补重叠区域的二次曝光能量。本发明针对重叠区域的数据图形再次设计数据图案，该数据图案可以消弱或反补二次曝光对重叠区域的数据图形造成的能量损失，从而可以提高重叠区域线条精度。

主权项

一种掩模板制作的优化设计方法，适用于掩模板曝光工序，其特征在于，具体包括以下步骤：曝光设备根据数据图形、光束数量及光束扫描宽度进行X/Y方向划分，计算出相应的曝光条数，获取相邻曝光条数重叠区域的位置以及重叠区域所对应的数据图形；根据重叠区域所对应的数据图形再次设计增加数据图案，以再次设计增加的数据图案消弱或反补重叠区域的二次曝光能量。