[发明专利]一种减反射镀膜玻璃和制备方法在审
| 申请号： | 201711487890.3 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108275889A | 公开（公告）日： | 2018-07-13 |
| 发明（设计）人： | 孟强;赖博渊;刘东阳;申忠东;陈立芯 | 申请（专利权）人： | 广东中航特种玻璃技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;C03B27/012;C03B27/04 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 王华强 |
| 地址： | 516083 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种减反射镀膜玻璃和制备方法，减反射镀膜玻璃包括：玻璃基片、过渡层、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层以及第二低折射率层；高折射率过渡层由氮化硅、氧化锌、氧化锌铝以及氧化锌锡中的一种组成；高折射率过渡层还可由第一子高折射率过渡层和第二子高折射率过渡层组成，第一子高折射率过渡层为二氧化硅，第二子高折射率过渡层为氮化硅；第一高折射率层为氧化钛；第一低折射率层为二氧化硅；第二高折射率层为氧化钛；第二低折射率层为二氧化硅；第二低折射率层还可由第一低折射率子层和第二低折射率子层组成；第一低折射率子层为氮化硅、氧化锌、氧化锌铝或者氧化锌锡中的一种，第二低折射率子层为二氧化硅。 | ||
| 搜索关键词： | 过渡层 高折射率 低折射率层 高折射率层 低折射率 二氧化硅 子层 镀膜玻璃 氮化硅 减反射 氧化锌铝 氧化锌锡 氧化锌 氧化钛 制备 玻璃基片 | ||
【主权项】：
1.一种减反射镀膜玻璃，其特征在于，包括：玻璃基片(B)以及由所述玻璃基片(B)的其中一个表面依次设置的高折射率过渡层(T)、第一高折射率层(H1)、第一低折射率层(L1)、第二高折射率层(H2)以及第二低折射率层(L2)；所述高折射率过渡层(T)由氮化硅、氧化锌、氧化锌铝以及氧化锌锡中的一种组成；所述高折射率过渡层(T)还可以由第一子高折射率过渡层(T1)以及第二子高折射率过渡层(T2)组成，其中，所述第一子高折射率过渡层(T1)为二氧化硅，所述第二子高折射率过渡层(T2)为氮化硅；所述第一高折射率层(H1)为氧化钛；所述第一低折射率层(L1)为二氧化硅；所述第二高折射率层(H2)为氧化钛；所述第二低折射率层(L2)为二氧化硅；所述第二低折射率层(L2)还可以由第一低折射率子层(L21)以及第二低折射率子层(L22)组成；所述第一低折射率子层(L21)为氮化硅、氧化锌、氧化锌铝或者氧化锌锡中的一种，所述第二低折射率子层(L22)为二氧化硅。
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