[实用新型]磁流变三维抛光装置有效
| 申请号： | 201720042738.3 | 申请日： | 2017-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN206445613U | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | 吕鸿图;施武助;徐维浓;向定艾 | 申请（专利权）人： | 昆山纳诺新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人： | 杨敏,金玉兰 |
| 地址： | 215300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种磁流变三维抛光装置。磁流变三维抛光装置包含抛光容器及磁场发生器。其中，抛光容器具有容置空间，且容置空间容置抛光液及待抛光的工件。抛光容器设置于磁场发生器上，且与磁场发生器同步旋转，其中转速为0至300rpm。本实用新型的磁流变三维抛光装置能克服现有技术的磁流变抛光装置抛光效率不高，在抛光形状复杂的三维工件时抛光效果不均匀，操作复杂的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 流变 三维 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种磁流变三维抛光装置，其特征在于，包含：抛光容器，具有容置空间，且所述容置空间容置抛光液及待抛光的工件；以及磁场发生器，所述抛光容器设置于所述磁场发生器上，且与所述磁场发生器同步旋转，其中转速为0至300rpm。
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