[实用新型]清洗系统及其化学气相沉积设备有效
申请号: | 201720083107.6 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN206428324U | 公开(公告)日: | 2017-08-22 |
发明(设计)人: | 赖善春 | 申请(专利权)人: | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种清洗系统,用于真空管道清洗,包括检测装置、离化装置、抽吸装置和开关装置,所述检测装置设于真空管道上并用于检测真空管道内沉积物的含量,所述离化装置连接真空管道并用于将能与沉积物反应的清洁物质注入真空管道,所述抽吸装置连接并用于抽吸真空管道,所述开关装置设于真空管道上并用于在沉积物的含量超过预设上限值时切断真空管道。如此一来,清洗真空管道时,可以免去拆卸真空管道的麻烦,而且无需送外清洗,节省了清洗时间和成本,特别地,在线清洗可以缩短生产设备的停机时间,提高生产效率。 | ||
搜索关键词: | 清洗 系统 及其 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种清洗系统,用于真空管道清洗,其特征在于,所述清洗系统包括:用于检测所述真空管道内沉积物含量的检测装置,设置于所述真空管道上;用于将能与所述沉积物反应的清洁物质注入所述真空管道的离化装置,连接所述真空管道;用于抽吸所述真空管道的抽吸装置,连接所述真空管道;以及用于在沉积物的含量超过预设上限值时切断所述真空管道的开关装置,设置于所述真空管道上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的