[实用新型]清洗系统及其化学气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 201720083107.6 申请日: 2017-01-20
公开(公告)号: CN206428324U 公开(公告)日: 2017-08-22
发明(设计)人: 赖善春 申请(专利权)人: 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 智云
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种清洗系统,用于真空管道清洗,包括检测装置、离化装置、抽吸装置和开关装置,所述检测装置设于真空管道上并用于检测真空管道内沉积物的含量,所述离化装置连接真空管道并用于将能与沉积物反应的清洁物质注入真空管道,所述抽吸装置连接并用于抽吸真空管道,所述开关装置设于真空管道上并用于在沉积物的含量超过预设上限值时切断真空管道。如此一来,清洗真空管道时,可以免去拆卸真空管道的麻烦,而且无需送外清洗,节省了清洗时间和成本,特别地,在线清洗可以缩短生产设备的停机时间,提高生产效率。
搜索关键词: 清洗 系统 及其 化学 沉积 设备
【主权项】:
一种清洗系统,用于真空管道清洗,其特征在于,所述清洗系统包括:用于检测所述真空管道内沉积物含量的检测装置,设置于所述真空管道上;用于将能与所述沉积物反应的清洁物质注入所述真空管道的离化装置,连接所述真空管道;用于抽吸所述真空管道的抽吸装置,连接所述真空管道;以及用于在沉积物的含量超过预设上限值时切断所述真空管道的开关装置,设置于所述真空管道上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司,未经昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720083107.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top