[实用新型]一种板式PECVD机台

摘要

本实用新型公开了一种板式PECVD机台，包括放置有石墨框的传输滚轮，沿着传输滚轮的上传输方向依次排放的进料腔、预热腔、用于在硅片的正面绒面的正面形成正面氮化硅层的第一工艺腔、冷却腔以及出料腔，第一工艺腔与冷却腔之间还设置有用于在硅片的背面形成背面氮化硅层的第二工艺腔，第二工艺腔与冷却腔之间还设置有用于在硅片的背面氮化硅层的背面形成背面二氧化硅层的第三工艺腔；待加工的硅片放置在石墨框上，并沿着传输滚轮的上传输方向依次经过进料腔、预热腔、第一工艺腔、第二工艺腔、第三工艺腔、冷却腔及出料腔。该板式PECVD机台，能够实现正面氮化硅和背面氮化硅的加工，制备得到的电池片能够双面反射光，从而有效提升背光吸收率。

主权项

一种板式PECVD机台，其特征在于，包括放置有石墨框(2)的传输滚轮(3)，沿着所述传输滚轮(3)的上传输方向依次排放的进料腔(4)、预热腔(5)、用于在硅片(1)的正面绒面(11)的正面形成正面氮化硅层(12)的第一工艺腔(6)、冷却腔(9)以及出料腔(10)，所述第一工艺腔(6)与所述冷却腔(9)之间还设置有用于在硅片(1)的背面形成背面氮化硅层(14)的第二工艺腔(7)，所述第二工艺腔(7)与所述冷却腔(9)之间还设置有用于在硅片(1)的背面氮化硅层(14)的背面形成背面二氧化硅层(15)的第三工艺腔(8)；待加工的硅片(1)放置在所述石墨框(2)上，并沿着所述传输滚轮(3)的上传输方向依次经过所述进料腔(4)、所述预热腔(5)、所述第一工艺腔(6)、所述第二工艺腔(7)、所述第三工艺腔(8)、所述冷却腔(9)及所述出料腔(10)。