[实用新型]一种MOCVD设备的清洁装置有效
| 申请号： | 201720183322.3 | 申请日： | 2017-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN206529522U | 公开（公告）日： | 2017-09-29 |
| 发明（设计）人： | 肖怀曙 | 申请（专利权）人： | 惠州比亚迪实业有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;B08B7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 516083*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种MOCVD设备的清洁装置，包括支架；摆动电机，所述摆动电机设置在支架上；激光发生器，所述激光发生器与所述摆动电机的输出轴连接，以使激光发生器在摆动电机驱动下在竖直方向上转动。该MOCVD设备的清洁装置，具有激光发生器，采用激光剥离晶体，实现MOCVD设备的高质量和高效率的清洁，而且该清洁装置的激光发生器可转动，方便对被清洁部件各个角度的清洁，适用于各种环境条件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mocvd 设备 清洁 装置 | ||
【主权项】：
一种MOCVD设备的清洁装置，其特征在于，包括：支架；摆动电机，所述摆动电机设置在支架上；激光发生器，所述激光发生器与所述摆动电机的输出轴连接，以使激光发生器在摆动电机驱动下在竖直方向上转动。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
