[实用新型]一种刻蚀腔室上刻蚀入口的闸门装置有效
申请号: | 201720232377.9 | 申请日: | 2017-03-10 |
公开(公告)号: | CN206490047U | 公开(公告)日: | 2017-09-12 |
发明(设计)人: | 陈亮;李欣;曹顺有 | 申请(专利权)人: | 南京攀诺德自动化设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 南京汇盛专利商标事务所(普通合伙)32238 | 代理人: | 陈扬 |
地址: | 210000 江苏省南京市经济技术开*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种刻蚀腔室上刻蚀入口的闸门装置,包括驱动轴、气缸、第一驱动块、第二驱动块以及设有槽孔的挡板,所述气缸固定于所述刻蚀腔室的外壁上,且气缸的气缸轴与第二驱动块相连,第二驱动块与第一驱动块相铰接,第一驱动块固定于驱动轴上,驱动轴转动设于所述刻蚀腔室内,挡板倾斜抵接于刻蚀腔室的内壁上并将所述刻蚀腔室的刻蚀入口封闭,气缸的气缸轴收缩并驱动挡板转动,挡板的一端面平行抵触于刻蚀腔室的内壁时,所述槽孔与所述刻蚀入口相贯通。本实用新型能够在电子显示屏刻蚀加工过程中,有效的闭合刻蚀腔室上的刻蚀入口,使得酸液不会外泄,净房环境变好,避免腐蚀非工艺腔内的滚轮、电机等部件,从而保证良好的生产工艺。 | ||
搜索关键词: | 一种 刻蚀 腔室上 入口 闸门 装置 | ||
【主权项】:
一种刻蚀腔室上刻蚀入口的闸门装置,其特征在于:包括驱动轴(12)、气缸(13)、第一驱动块(14)、第二驱动块(15)以及设有槽孔(110)的挡板(11),所述气缸(13)固定于所述刻蚀腔室的外壁上,且气缸(13)的气缸轴与第二驱动块(15)相连,第二驱动块(15)与第一驱动块(14)相铰接,第一驱动块(14)固定于驱动轴(12)上,驱动轴(12)转动设于所述刻蚀腔室内,挡板(11)倾斜抵接于刻蚀腔室的内壁上并将所述刻蚀腔室的刻蚀入口封闭,气缸(13)的气缸轴收缩并驱动挡板(11)转动,挡板(11)的一端面平行抵触于刻蚀腔室的内壁时,所述槽孔(110)与所述刻蚀入口相贯通。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造