[实用新型]立式磁控溅射镀膜用的偏压结构及其夹持装置有效
| 申请号： | 201720409490.X | 申请日： | 2017-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN206624911U | 公开（公告）日： | 2017-11-10 |
| 发明（设计）人： | 李国伟;李青;任书明;陈发伟;李兆廷 | 申请（专利权）人： | 东旭科技集团有限公司;东旭集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙)11447 | 代理人： | 陈庆超,桑传标 |
| 地址： | 100070 北京市丰台区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种立式磁控溅射镀膜用的偏压结构及其夹持装置，该偏压结构包括相对于待镀膜基片固定的一对安装座，设置于一对安装座之间的偏压部，设置于每个安装座和偏压部之间的扭簧，每个扭簧的第一端部相对于偏压部固定，第二端部相对于相应的安装座固定，以使得偏压部能够弹性偏压到待镀膜基片上，并且偏压部具有与待镀膜基片接触且相互间隔开的第一偏压面和第二偏压面。由于偏压结构与待镀膜基片之间具有相互间隔开的第一偏压面和第二偏压面，能够保证偏压结构和待镀膜基片充分接触面积的前提下，避免局部温升过高造成的局部应力集中问题，从而避免如400℃～500℃工艺温度下因夹持点应力过大造成的产品破碎问题。 | ||
| 搜索关键词： | 立式 磁控溅射 镀膜 偏压 结构 及其 夹持 装置 | ||
【主权项】：
一种立式磁控溅射镀膜用的偏压结构，其特征在于，包括相对于待镀膜基片(70)固定的一对安装座(10)，设置于所述一对安装座(10)之间的偏压部(20)，设置于每个安装座(10)和所述偏压部(20)之间的扭簧(30)，每个扭簧(30)的第一端部相对于所述偏压部(20)固定，第二端部相对于相应的所述安装座(10)固定，以使得所述偏压部(20)能够弹性偏压到所述待镀膜基片(70)上，并且所述偏压部(20)具有与所述待镀膜基片(70)接触且相互间隔开的第一偏压面(51)和第二偏压面(52)。
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