[实用新型]一种输出空气阻隔室

摘要

本实用新型提供了一种输出空气阻隔室，应用于对晶圆进行干法刻蚀的机台中，机台包括干法刻蚀的反应腔体、传送装置、输入空气阻隔室、输出空气阻隔室，其中，输出空气阻隔室包括承托结构，设置于输出空气阻隔室中，用以水平的放置晶圆；进气阀，设置于输出空气阻隔室的顶部，用以通过进气阀通入外部气体至输出空气阻隔室内；加热装置，固定设置于输出空气阻隔室的内壁上，且位于承托结构的上方，并于进气阀连通；出气阀，设置于输出空气阻隔室的底部，出气阀连接有一气体泵，所述气体泵用以抽取所述输出空气阻隔室内的空气。其技术方案的有益效果在于，克服了现有的晶圆在反应完成后聚合物聚集于晶圆表面造成晶圆缺陷，影响晶圆良率。

主权项

一种输出空气阻隔室，应用于对晶圆进行干法刻蚀的机台中，所述机台包括干法刻蚀的反应腔体、传送装置、输入空气阻隔室、输出空气阻隔室，所述输入空气阻隔室的一端与所述反应腔体连接，另一端与所述传送装置连接，所述输出空气阻隔室的一端与所述反应腔体连接，另一端与所述传送装置连接，其特征在于，所述输出空气阻隔室包括：承托结构，设置于所述输出空气阻隔室中，用以水平的放置所述晶圆；进气阀，设置于所述输出空气阻隔室的顶部，用以通过所述进气阀通入外部气体至所述输出空气阻隔室内；加热装置，固定设置于所述输出空气阻隔室的内壁上，且位于所述承托结构的上方，并于所述进气阀连通；出气阀，设置于所述输出空气阻隔室的底部；所述出气阀连接有一气体泵，所述气体泵用以抽取所述输出空气阻隔室内多余的气体。