[实用新型]一种DFN2020‑6多芯片高密度框架有效

专利信息
申请号: 201720510342.7 申请日: 2017-05-10
公开(公告)号: CN206806316U 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 罗天秀;樊增勇;崔金忠;李东;许兵;李宁;李超 申请(专利权)人: 成都先进功率半导体股份有限公司
主分类号: H01L23/13 分类号: H01L23/13
代理公司: 四川力久律师事务所51221 代理人: 王芸,熊晓果
地址: 611731 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型涉及一种半导体制造技术,具体涉及DFN2020‑6多芯片高密度框架,包括板状结构的矩形框架,在框架上设多个与DFN2020‑6封装结构相适应的芯片安装部,在每个芯片安装部上设有3个芯片安置区,3个芯片安置区的连线呈三角形,即3个芯片安置区分别位于三角形的三个角上;所述第一芯片安置区槽型边框周围的区域为半腐蚀结构。该框架在每个芯片安装部上设置3个芯片安置区,且分别分布于三角形的三个角上,利于节省布置空间,并将其中一个芯片安置区的槽型边框周围设置成半腐蚀结构,能利用该半腐蚀结构和芯片安置区放置2个小芯片,这样整个芯片安装部上可以4个芯片,提高芯片布置率,节约生产成本。
搜索关键词: 一种 dfn2020 芯片 高密度 框架
【主权项】:
一种DFN2020‑6多芯片高密度框架,包括板状结构的矩形框架,其特征在于,在框架上设多个与DFN2020‑6封装结构相适应的芯片安装部,在每个芯片安装部上设有3个芯片安置区,3个芯片安置区的连线呈三角形,即3个芯片安置区分别位于三角形的三个角上;3个芯片安置区中其中2个为安置大芯片的大芯片安置位,另一为第一芯片安置区,所述第一芯片安置区用于放置2个小芯片,所述第一芯片安置区槽型边框周围的区域为半腐蚀结构。
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