[实用新型]一种去除表面氚污染的等离子体去污系统有效
| 申请号： | 201720523127.0 | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN206716635U | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 谢云;杜阳;石正坤;杨勇;余卫国 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心51210 | 代理人： | 翟长明,韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，所述的方法采用高压电离气体产生等离子体，等离子体利用其高能量的活性成分有选择地与表面污染物反应，将其转变为具有挥发性的化合物，最终使污染物从表面去除，在去污前后监测待去污物件表面的氚污染水平，直至待去污物件表面达到设定的表面污染物控制值，实现恢复再用。同时，对去污产生的尾气过滤吸附，尾气中的氚催化氧化吸收处理达标后排放。本实用新型的去除表面氚污染的等离子体去污系统实现了待去污物件的表面高效率去污、在线监测、恢复再用，减少了放射性污染的扩散，通过在密闭空间自动去污，提高了工作效率，减轻了工作人员的劳动强度，降低了工作人员照射剂量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 表面 污染 等离子体 去污 系统 | ||
【主权项】：
一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，其特征在于：所述的等离子体去污系统包括通过气体输送管道顺序连接的等离子体系统（1）、密封罩（5）、在线监测装置（6）、过滤器（7）、阀门（8）、尾气后处理系统（9）；所述的密封罩（5）为密封的箱体，密封罩（5）内安装有去污头（2）、待去污物件（3），去污头（2）接收等离子体系统（1）通过气体输送管道输送的工作气体和等离子体系统（1）通过传输电缆输送的电流，在去污头（2）内激发产生等离子体引出作用在去污工作面上。
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